中国于2018年10月26日批准通过了《全国人民代表大会常务委员会关于专利等知识产权案件诉讼程序若干问题的决定》(以下简称《决定》),该《决定》从根本上改变了上诉程序对某些技术性知识产权纠纷的适用方式。

目前,最高人民法院作为中国最高级别法院仅是知识产权案件的最终上诉途径。一般而言,技术性知识产权一审案件在中级人民法院和/或专门的知识产权法院审理。对中级人民法院和/或专门的知识产权法院的上诉案件由省级高等人民法院审理;只有进一步的上诉被允许时,该案件才会交由最高人民法院审理。然而,该《决定》却改变了现有程序,实施了一项新制度,允许最高人民法院审理涉及包括发明专利和实用新型、植物新品种、集成电路布图设计、技术秘密、计算机软件著作权等在内的技术性知识产权纠纷的一审民事案件的上诉。 该《决定》自2019年1月1日起实施。

新制度的具体细节尚未阐明。但是,据了解,相关上诉案件将由最高人民法院组建的知识产权法庭审理; 这些法庭的判决将是二审判决。 如果相关各方对这些二审判决不服,将允许他们向最高人民法院申请全面再审。

这对在中国的外国知识产权诉讼当事人意味着什么?

不利的是,鉴于目前在许多不同的省级高级人民法院审理的上诉案件数量众多,执行该决定可能会延长诉讼程序。不可避免地,将上诉法院集中在一个地点会对法院的效率造成很大压力,除非它的结构能够解决这个潜在的问题。此外,令人失望的是外观设计专利并不包括在新的二审法庭的管辖范围内。

尽管如此,总体而言,这一发展对于在中国的外国知识产权诉讼当事人来说应该是个好消息。将对一审法院的技术性上诉置于一个单一的经验丰富的法庭(如最高人民法院)控制之下应该会提高上诉裁决的精准性、中立性和一致性。此举与最近通过在现有的北京、上海和广州的知识产权专门法院的基础上引入15个新的知识产权法庭来集中一审知识产权案件的这一发展相一致。看到这一新发展是如何演变的将是一件有趣的事情,但这似乎是中国知识产权诉讼格局中又向前迈出的积极一步。