改正「設計(意匠)専利審査基準」

2016年8月15日より施行
【ソース:TIPOウェブサイド】

 

経済部2016年8月5日経授智字第10520032501号令で改正「専利審査基準第三篇設計(意匠)専利実体審査」第1章、第6章、第8章、第9章及び第10章の関係章節の内容を発布し、2016年8月15日より発効。

  1. 2016年6月29日に公告された改正専利法施行細則第51条及び第53条の内容に基づいて取り扱う。
  2. 設計(意匠)専利の審査実務に適応するため、専利法施行細則第51条第3項第2号を改正し、画像設計の出願に関し、その出願する態様は連続する活動状況の変化状態に限らず、変化する外観を有するように改正し、当該用語をより上位化させる。
  3. 参考図の作用を明確に説明するため、専利法施行細則第53条第6項を改正し、図面中参考図が設計(意匠)専利権の範囲とすることができないと表示されているが応用する物品又は使用環境の補助的説明に用いられることができる。
  4. 上記専利法施行細則の改正条文により合わせて「設計(意匠)専利実体審査基準」第1章説明書及び図面、第6章改正、訂正及び誤訳の訂正、第8章部分設計、第9章画像設計及び第10章組物設計等関係章節の内容の画線版及び無画線版を改正。

なお、設計(意匠)専利実体審査基準第1章説明書及び図面2.3.3各面図(視図)の間、同じ、対称又はその他の事由で省略されたもの、図1-3の図例は左面図、右面図に微小なエラーがある故、併せて改正する。

20201月から重大な変革をするようになる。すなわち、202011IPOS)自ら審査し、特許の許可又は拒絶査定を行う。

 

IPOSEmailで上記情報を公にした。即日から202011Substantive examination)を請求するか、もしくは外国の特許庁の審査結果に依頼してシンガポール政府のオフィシャルフィが免除される補充審査(Supplementary Examination)にするかを決めなければならない。こういう併行する制度は202011日新しい制度が正式に施行するまで続く。

シンガポール政府は、20133IP-HUBマスタープランを発表し、アジアにおける知財のハブになることを目指している。シンガポール特許の主体性の強化という既定目標を実現するため、202011IPOS)自ら実体審査を経なければならない。